经过康研究员的一番介绍，两人大致的了解了一些这款光刻机。

结构方面，基本是复制了林晓捐给上面的那台光刻机，但也有部分地方进行了改进。

康研究员知道两人算是这方面的小白，所以，解释的比较通俗。

按照康研究员所说，这台光刻机，算是第四代光刻机，但是，整体方面，只能算是三代半，只是略优于第三代，但是，已经铺平了第四代光刻机的研发之路，研发出第四代光刻机，只是时间问题，因为已经没有太难的技术节点了。

最难的激光光源问题已经解决了，之前林晓通过富欧集团买回来的两台光刻机，使用的光源是KrF，氟化氪，而现在制造出来的这台，使用的光源是ArF，氟化氩。

之前的光刻机，能生产出300nm已经接近极限了，就算继续改进制程工艺，最多也就是能生产出180nm制程的芯片。

而新的光刻机，理论上，可以生产出28nm的芯片，当然，这只是理论上，实际上不可能实现。

但是，利用这一款光刻机，以及后续的改进型，配合更先进的芯片制程工艺，加工出70nm的芯片是没有什么问题的。

也就是说，未来的十年，不需要为了光刻机而犯愁了。