想要进入研究院的车间。

那复杂程度不亚于西天取经。

防护服得穿上。

然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。

在经过紫外线照射等等环节。

从准备到进入，差不多要花上一个多小时。

没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。

光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。

再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。

如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。

光在哪里传播呢？自然是空气。

这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。

哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。

现在91年，光刻机的精密度还没有那么高。

这台从阿斯麦过来的机器，还远远没有达到后世的7纳米，甚至5纳米。

所以，对车间的要求在当下看起来是非常高，但自己人还是能搞一搞。

等到后世就坏菜了。

光刻机的精密度提高，对环境的要求更加苛刻和变态。

在国际上通用标准来说，手术室的要求的环境是iso5级。

这也是常人能接触到最干净的环境了。

但是，芯片生产因为特别精细。

极其微小的杂质都会影响产品的质量。

所以，在后世，生产芯片的车间竟然要求iso1级或者iso2级的最高水平！

也就是每立方米的空气中，超过01u大小的杂质，不能超过100粒。

这是什么概念？

打个比方说：如果西湖里面装满纯净水，你往里面撒一把盐，它就不合格了！

很是恐怖的要求！

简直让人无法想象，这么高要求，你靠人工打扫肯定是不行的。

人类每分钟会掉900多块死皮。

450个以上的细菌。

滴一滴汗，就会报废一批芯片！

注意是一批！而不是一个！

所以，芯片厂的自动化要求特别高，人反而是累赘。

能用机器的地方就不用人。

厂房里面还需要不间断的吹风。

一边吹一边过滤，确保完全无尘。

而这种吹风过滤的机器，叫风机过滤机组。

这种机组，只有老美和岛国才能生产出来。

这也是武长风让霍家齐去往岛国购买的空气净化设备的缘由。

就连过滤用的滤纸，在后世都没有国产能够替代。

在芯片生产这个流程里面，类似这样的细节还有很多。

这不仅仅是环境的要求，还有更多的注意事项，简直就是让人头皮发麻。

进入车间后。